|
|
||
|
Обладнання |
|
|
|
|
|
||||||||
|
|
||||||||
|
|
||||||||
|
|
Надвисоковакуумний Сканувальний Зондовий Мікроскоп JSPM-4610
З моменту своєї появи у 1982 році, сканувальний зондовий мікроскоп (СЗМ) впевнено зайняв міцне положення, в якості інструменту дослідження, і в наш час став необхідним інструментом для аналізу поверхні. Разом з цим збільшилася потреба у спостереженні чистої поверхні зразка, використовуючи характеристики СЗМ. Спостереження таких чистих поверхонь потребує постійної витримки середовища, в якому відбувається спостереження, під ультрависоким вакуумом, який дозволяє проводити очистку поверхні зразків.
Надвисоковакуумний сканувальний зондовий мікроскоп (НВВ-СЗМ) розроблено фірмою JEOL як інструмент, який володіє максимальними можливостями для проведення аналізу поверхонь. У його удосконаленні фірма JEOL продемонструвала всі технічні можливості, які було накопичено за довгі роки праці у якості виробника наукових інструментів
Технічні характеристики JSPM-4610
Роздільна здатність |
Горизонтальна: 0.14 нм для СТМ, атомна роздільна здатність для АСМ. |
Механічне переміщення |
За допомогою моторів |
Рух по осі Z (функція наближення) |
Грубо контролює відстань між зразком та верхівкою зонду |
Механізм автонаближення |
Вбудований |
Рух по осі X та Y (функція зміщення зразка) |
|
Діапазон руху |
По осі X та Y: 4 нм (±2 нм)(СТМ) |
Індикатор центру позиції |
Вбудований |
Сканер |
|
Тип |
Stack share (STM). Tube (AFM) |
Діапазон руху |
По осі X та Y: 0.2 мкм (200 нм), по осі Z: 0.6 мкм (СТМ) |
Зміна напрямку сканування |
Від -180 до + 180° |
Швидкість сканування |
|
Крок сканування |
Від 1.7 мс до 10 с/лінію (16 кроків) |
Діапазон сканування |
|
Діапазон змін |
Від 0 до 200 нм |
Функція масштабування |
Наявна |
Зразок |
|
Кількість зразків під час сканування |
Один (Для зміни зразків використовується магнітний маніпулятор) |
Розміри зразка |
Максимальні: 10 мм (ширина) × 10 мм (довжина) × 5 мм (товщина) |
Механізм нагрівання зразка |
|
Метод нагрівання |
Безпосереднє нагрівання завдяки електричному опору зразка |
Температура нагрівання |
Від кімнатної температури до понад 1200°C |
Зонд |
|
Кількість зондів |
Один (Для заміни зонду використовується магнітний маніпулятор) |
Матеріал |
W (вольфрам) |
Очищення зонду |
Завдяки застосуванню високих значень струму зміщення |
Дрейф |
|
Системний дрейф |
не більше 0,05 нм /с (за кімнатної та підвищеної температури) |
Детекція сигналу |
|
Режим СТМ |
|
Режим СТС (Сканувальної тунельної спектроскопії) |
|
Струм тунелювання |
Від 30 пА до 1мA |
Струм зміщення |
|
Діапазон змін |
Від 0 до ±10 В |
Будова камери |
Трьохкамерна конструкція (3 камери, які викачуються незалежно одна від одної) |
Камера УВВ-СЗМ |
Для установки стола СТМ тощо |
Залишковий тиск у камері УВВ-СЗМ |
Не більше 3 × 10-8 Па |
Камера обробки зразка |
Для обробки зразка та зберігання зонду та зразка |
Залишковий тиск у камері обробки зразка |
Прибл. 10-7 Па |
Перехідний шлюз |
Для заміни зонду та зразка |
Залишковий тиск у перехідному шлюзі |
Прибл. 10-4 Па |
Нагрівач для відпалювання |
Вбудований |
Пристрої для гасіння вібрації |
|
Пневматична підвіска |
Підвіска універсального типу |
Метод складання |
3-стільний 4-циліндричний |
Комп'ютерна система контролю (КСК) |
|
Комп'ютерна система |
Сумісна з IBM PC/AT |
Система обробки зображень |
|
Розмі пам'яті кадрів |
Вбудована 512 × 512 × 8 біт |
АЦ та ЦА конвертер |
Високошвидкісний 16-бітний |
Дисплей |
Кольоровий монітор з високою роздільною здатністю |
Програмне забезпечення для керування |
Меню параметрів сканування (задавання координат X, Y, Z, швидкості сканування) |
Програмне забезпечення для обробки зображень |
Більше 100 типів |
Приладовий парк Центру зондової мікроскопії складають: високовакуумний зондовий мікроскоп, оптичний мікроскоп, установка магнетронного напилення, високоточні аналітичні ваги, дериватограф, однопроменевий спектрофотометр, ліофільна сушка. Дана апаратура розроблена і виготовлена фірмами, визнаними світовими лідерами, в області вакуумного і аналітичного приладобудування та має 100% сертифікацію на відповідність, що є необхідною вимогою при закупівлі аналітичного обладнання.
